Китайцы смогли «скопировать» литографическую систему — ключевую технологию для производства самых передовых чипов.

EUV-литограф позволяет создавать современные 5 нм и 3 нм чипы, без которых современный мир уже невозможно представить. Они используются в передовых смартфонах, искусственном интеллекте, военной технике и т.д. Все мощные устройства от Nvidia, AMD, Intel, Apple, Samsung и других лидеров индустрии завязаны именно на этом оборудовании.

Но проблема в том, что EUV-литографию освоила единственная компания в мире — нидерландская ASML. США сразу же забрали эту технологию под свой полный контроль, поэтому эти системы доступны только их союзникам, но никак не Китаю.

Тогда Поднебесная начала хантить инженеров, работавших в ASML, которые только вышли на пенсию или уволились из компании, предлагая им всё, что они хотели. Эти люди не просто получают большие деньги, но и жильё, полную защиту, а также прямую связь с высшим руководством КНР, т.к. это национальный проект.

Таким образом удалось собрать несколько десятков ведущих учёных и привлечь около сотни инженеров. Всё это без преувеличения называют «китайским Манхэттенским проектом».

По словам инсайдеров, у Китая теперь есть полноценный рабочий прототип EUV-литографической машины, который уже генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение и скоро сможет печатать реальные чипы.

Поэтому в ближайшие несколько лет монополия ASML может быть подорвана, что потенциально приведёт к росту инноваций по всему миру, ускорению развития технологий, а также снижению цен на оборудование и чипы.